薄膜厚度计可用于在线薄膜厚度测量，氧化物测量，SiNx，光敏保护薄膜和半导体薄膜。
它还可用于测量涂在钢，铝，铜，陶瓷和塑料上的粗糙薄膜层。
界面处的反射光干扰来自基板的反射光。
干涉的发生与膜厚度和折射率有关。
因此，可以计算膜的厚度。
光学干涉方法是无损，准确和快速的光学膜厚度。
测量技术，薄膜测量系统采用光学干涉原理来测量薄膜厚度。
1，可以测量多层薄膜中每层的厚度2，三维厚度剖面3，遥控和在线测量4，可以做150mm或300mm宽范围的扫描测试5，丰富的材料库：操作软件材料库具有大量材料的n和k数据。
本材料库中包含基本使用的材料。
用户还可以输入不在材料库中的材料。
6.软件操作简单，速度测量快：膜厚测量仪操作非常简单，测量速度快：100ms-1s。
7，软件具有结构材料结构的扩展功能，可以适应和分析单/多层薄膜数据，并可以预先模拟薄膜材料。
8.软件磁带可扩展扫描功能，2D胶片测试和2A或3D显示。
其他升级功能包括在线分析软件，遥控模块厚度测量：10 nm - 250μm;选择250nm-1100nm之间的任何波长，并选择此范围内的多波长分析;波长：250-1100nm厚度范围：10nm - 250m分辨率：0,1nm重复性：0,3nm精度：＆amp; lt; 1 [％]（100nm - 100m）测试时间：100ms - ＆lt; 1s分析层数：1--4光纤距离：1-5mm镜头距离：5mm-- 100mm入射角：90°光斑尺寸：400m微点表示：与显微镜一起使用，1--20m，显微镜10x / 20x / 50x放大倍率和MFA适配器;光纤长度：2米（其他长度根据要求）接口：USB 1.1（RS-232）电源要求：12 VDC @ 1,2A，220 VAC 50/60 Hz尺寸：180mm x 152 mm x 263mm总计：3.5 kg厚度计是主要用于晶圆或玻璃表面介质绝缘层（SiO2，Si3N4，光刻胶，ITO，......）;晶圆或玻璃表面上的超薄金属层（Ag，Al，Au，Ti，......）; DLC（类金刚石碳）硬涂层; SOI晶圆; MEM厚膜（100m至250m）; DVD / CD涂层;光学镜片涂层; SOI晶圆;金属箔;晶圆和掩模气层;变薄的晶圆（＆amp; lt 120m）;弧形涂层，如瓶子或注射器;电影业在线过程控制等场合。
